发明名称 |
高含量PANH<sub>4</sub>水基氧化铝陶瓷基片及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种高含量PANH4水基氧化铝陶瓷基片及其制备方法,该基片原料包括基础浆料和辅料,其特征在于基础浆料是以聚丙烯酸铵与水的混合物为基础载体与Al2O3组成、聚丙烯酸铵与水的重量比为3:1-1:2,Al2O3在基础载体中的体积浓度为35-45%,辅料为占Al2O3重4-10%的塑性剂。本发明体系浆料具有良好的适于流延的流变特性,制备得到氧化铝陶瓷基片表面光滑,气孔率小,结构致密,生坯拉伸强度大于3.0MPa,氧化铝陶瓷基片相对密度为90%以上。 |
申请公布号 |
CN102765945A |
申请公布日期 |
2012.11.07 |
申请号 |
CN201210287827.6 |
申请日期 |
2012.08.13 |
申请人 |
南京工业大学 |
发明人 |
郭露村;高磊;陈涵 |
分类号 |
C04B35/634(2006.01)I;C04B35/10(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/634(2006.01)I |
代理机构 |
南京天华专利代理有限责任公司 32218 |
代理人 |
夏平 |
主权项 |
一种高含量PANH4水基氧化铝陶瓷基片,该基片原料包括基础浆料和辅料,其特征在于基础浆料是以聚丙烯酸铵与水的混合物为基础载体与Al2O3组成、聚丙烯酸铵与水的重量比为3:1‑1:2,Al2O3在基础载体中的体积浓度为35‑45%,辅料为占Al2O3重4‑10%的塑性剂。 |
地址 |
210009 江苏省南京市南京新模范马路5号 |