用于处理单片半导体工件的溶液制备设备和方法

摘要

本发明揭示了一种低成本的化学溶液制备设备，可控制使用点的化学新鲜度，温度，以及活性成分产额等工艺参数。另外，该设备使这些参数在单晶片湿法清洗系统的多个处理腔之间保持腔-腔一致。本发明也揭示了一种方法，以控制化学溶液混合物停留时间得到最佳的化学溶液混合物温度、其活性成分反应性与产额联合作用效果，从而达到最佳的晶片清洗效果。

主权项

一种处理单片半导体工件的化学溶液制备设备，包括：化学溶液，至少由一个加热装置加热至温度T_0；多个泵与控制阀门，控制所述每种化学溶液的输送和控制；混合容器，在输送该容器内新鲜混合的化学溶液到处理腔的半导体工件上之前，在该混合容器内预热化学溶液，以控制的停留时间t_r混合并反应成为化学溶液混合物，所述停留时间t_r控制化学溶液混合物在使用点的活性与温度；软件控制系统，设置标记，以在时刻t将每种化学溶液引入所述混合容器；处理腔，具有至少一个化学溶液输送喷嘴，与至少一条至混合容器的化学溶液输送管路相连接。