发明名称 |
氮化物系半导体元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种氮化物系半导体发光元件及其制造方法。氮化物系半导体发光元件(100)包括:以m面(12)为表面的GaN基板(10)、在GaN基板(10)的m面(12)上形成的半导体叠层结构(20)、和在半导体叠层结构(20)上形成的电极(30)。电极(30)包含Mg层(32)、和形成在Mg层(32)上的Ag层(34),Mg层(32)与半导体叠层结构(20)中的p型半导体区域的表面相接触。 |
申请公布号 |
CN102007576B |
申请公布日期 |
2012.11.07 |
申请号 |
CN201080001395.7 |
申请日期 |
2010.03.17 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
大屋满明;横川俊哉;山田笃志;矶崎瑛宏 |
分类号 |
H01L21/28(2006.01)I;H01L33/32(2006.01)I;H01L33/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/28(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
一种氮化物系半导体元件,包括:氮化物系半导体叠层结构,其具有p型GaN‑系半导体区域,所述p型GaN‑系半导体区域的表面是m平面;以及电极,其设置在所述p型GaN‑系半导体区域上,所述p型GaN‑系半导体区域由AlxInyGazN半导体形成,其中,x+y+z=1,x≥0、y≥0、z≥0;所述电极含有与所述p型GaN‑系半导体区域的所述表面相接触的Mg层、和形成在所述Mg层上的Ag层。 |
地址 |
日本大阪府 |