| 发明名称 | 掩膜版 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种掩膜版，包括：掩膜版基板，所述掩膜版基板上设置有透光区域和不透光区域，所述透光区域上设置有汇聚光线的光汇聚结构。本实用新型通过设置使照射到掩膜版的透光区域的光汇聚的光汇聚结构，使得使用掩膜版曝光后形成的光刻胶图案的狭缝的宽度小于掩膜版的透光区域的宽度。 | ||
| 申请公布号 | CN202522841U | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
| 申请号 | CN201220171987.X | 申请日期 | 2012.04.20 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 于航;张锋 |
| 分类号 | G03F1/26(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/26(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;安利霞 |
| 主权项 | 一种掩膜版，包括：掩膜版基板，所述掩膜版基板上设置有透光区域和不透光区域，其特征在于，还包括设置于对应所述透光区域处的汇聚光线的光汇聚结构。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||