| 摘要 |
L'invention propose un support cosmétique S, notamment un masque comportant : - une première couche en non tissé absorbant et non élastique 1 comprenant un premier moyen chimique 4 apte à réagir avec un deuxième moyen chimique 5 pour dégager un gaz, - une deuxième couche non absorbante et élastique 2, la première couche 1 comportant au moins deux ondulations, telles que la première couche 1 est placée en contact discontinu avec la deuxième couche 2.
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