| 主权项 |
一种反应性气体控制装置，其包括：一腔，其具有一内表面；一引导面，其具有一圆筒形，该圆筒形具有一内面并终止于一边缘；一埠，其系由最接近该边缘的该内部表面之至少一部分形成，该埠连接一气体入口至腔；一第一贮槽，其系经组态以将一第一液体经由一位于该第一贮槽及该引导面之间之间隙传送至该引导面之该内面，该第一液体系以一第一流率被传送；及一第一液体循环机构，其与该第一贮槽相关，并经组态以赋予该第一液体一正切速度，使得该第一液体自该间隙通过至该边缘时，环绕该引导面之该内面涡漩；其中该引导面之该形状及流经该引导面之所传送的该第一液体之该第一流率引起该第一液体流过该边缘至该内表面，从而该第一液体形成一液体膜，该液体膜防止一气流在该腔与该气体入口内的气体压力之间的一第一压力差下流过该埠。如请求项1之装置，其中该液体膜允许一气流在大于该第一压力差之一第二压力差下通过该埠。如请求项1之装置，其进一步包括一注射器，该注射器系经组态以注射一反应性射流至该入口、出口及腔之任一者中。如请求项3之装置，其中该注射器包含一燃烧器。如请求项3之装置，其中该注射器经组态以注射一氧化性物质。如请求项1之装置，其进一步包括一第二贮槽，该贮槽经组态以传送一第二液体以涂布该内表面之至少一部分。如请求项1之装置，其中该引导面之该形状为围绕一垂直轴之圆筒形，该内表面之至少一部分系与该轴同中心，且该边缘包含该引导面之一圆形底部边缘。如请求项7之装置，其中该同中心部分之特征在于一大于特征化该底部边缘之一直径的直径。如请求项8之装置，其中该液体膜自该边缘流动至该内表面之该同中心部分。如请求项1之装置，其中该埠为环形。如请求项1之装置，其中该液体膜大约为圆锥形。一种除去一气流的方法，该方法包括：提供一装置，该装置包含：一腔，其具有一内表面；一引导面，其具有一形状及一边缘；一埠，其系由最接近该边缘的该内部表面之至少一部分形成，该埠连接一气体入口至腔；及一第一贮槽，其系经组态以一第一流率传送一第一液体至该引导面；其中该引导面之该形状及流经该引导面之所传送的该第一液体之该第一流率引起该第一液体流过该边缘至该内表面，从而该第一液体形成一液体膜，该液体膜防止一气流在该腔与该气体入口内的气体压力之间的一第一压力差下流过该埠；以该第一流率传送该第一液体；经由该气体入口传送该气流至该腔，该腔及该气体入口之特征在于该腔与该气体入口之间之一第二压力差引起该液体膜允许该气流流通过该埠；及操作该装置以除去被传送至该腔之该气流。如请求项12之方法，其中该气流包含一与水反应的污染物及一不可水溶污染物的任何一个，且该第一液体包含水。如请求项12之方法，其中该引导面之至少一部份为圆筒形，且传送该第一液体包含使该第一液体环绕该引导面之圆筒形部分涡漩。如请求项12之方法，其进一步包含传送一第二液体以涂布该内表面之至少一部份。如请求项12之方法，其中传送该第一液体包含在该腔内形成一液体包络，且该气流被传送至该液体包络之一内部。如请求项12之方法，其进一步包含注射一反应性物质至该气体入口及该腔之任一者，该反应性物质被选用于与该气流之至少一部份相反应。一种减小在一气流中的第一及第二污染物之一浓度的方法，该方法包括：在一湿洗涤器中湿洗涤该流出气流以减小该第一污染物之该浓度；传送该经湿洗涤气流至一装置之一气体入口，该装置包含：一腔，其具有一内表面；一引导面，其具有一形状及一边缘；一埠，其系由最接近该边缘的该内表面之至少一部分形成，该埠连接该气体入口至腔；及一第一贮槽，其系经组态以一第一流率传送一第一液体至该引导面；其中该引导面之该形状及流经该引导面之所传送的该第一液体之该第一流率引起该第一液体流过该边缘至该内表面，从而该第一液体形成一液体膜，该液体膜防止一气流在该腔与该气体入口内的气体压力之间的一第一压力差下流过该埠；以一第一流率传送形成该液体膜之该第一液体；控制一与该气体入口及该腔之任一相关的压力，以创造出该气体入口与该腔之间之一压力差，其提供该经湿洗涤气流经由该埠进入该腔之通道；及使所传送的该气流反应以减小该第二污染物的该浓度。如请求项18之方法，其中该引导面包含一圆筒形内面，该第一液体以一正切速度被传送至该内面，该正切速度引起该第一液体经由该边缘盘旋向下该内面，该液体膜大致呈圆锥形。如请求项18之方法，其中该第一污染物包含一可水溶污染物，且该第二污染物包含一不可水溶污染物及一与水反应的污染物之任一。 |
