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发明名称 Retainer Ring for Polishing Wafer and Method of Manufacturing the Same
摘要
申请公布号 KR101196418(B1) 申请公布日期 2012.11.01
申请号 KR20120075275 申请日期 2012.07.10
申请人 发明人
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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