| 发明名称 | 包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液 | ||
| 摘要 | 本发明提供包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液以及使用了其的包含铜层及钼层的多层薄膜的蚀刻方法。一种包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液以及使用了其的蚀刻方法，所述蚀刻液的pH为2.5~5，包含（A）过氧化氢、（B）不含氟原子的无机酸、（C）有机酸、（D）碳原子数2~10且具有合计基团数为二以上的氨基和羟基的胺类化合物、（E）唑类以及（F）过氧化氢稳定剂。 | ||
| 申请公布号 | CN102762770A | 申请公布日期 | 2012.10.31 |
| 申请号 | CN201180009674.2 | 申请日期 | 2011.02.15 |
| 申请人 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 冈部哲;成田和代;松原将英;安谷屋智幸;丸山岳人 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/30(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液，其pH为2.5~5，包含（A）过氧化氢、（B）不含氟原子的无机酸、（C）有机酸、（D）碳原子数2~10且具有合计基团数为二以上的氨基和羟基的胺类化合物、（E）唑类以及（F）过氧化氢稳定剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||