发明名称 |
热处理装置 |
摘要 |
本发明涉及一种热处理装置,能够在同时加热多个基座上分别载置的基板时,控制各基板的面内温度的均匀性,该热处理装置设置有:多个基座(120),其为载置所述基板的导电性部件,具有电性分隔为中心部(126)和周边部(124)的感应发热体(122);石英舟(112),将各基座排列成一列地加以支撑;感应线圈(130),按照包围各基座的周围的方式配置在处理室(102)内,构成为温度调节自由;和控制部(300),通过对从高频电流电路(200)施加到感应线圈的所述两个频率的高频电流加以控制,使感应发热体的中心部的发热量和周边部的发热量的比率发生变化从而进行温度控制。 |
申请公布号 |
CN102017078B |
申请公布日期 |
2012.10.31 |
申请号 |
CN200980114031.7 |
申请日期 |
2009.06.25 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
米永富广;河野有美子 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;H01L21/22(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种热处理装置,将气体供给到能够减压的处理室,对多枚基板实施热处理,该热处理装置的特征在于,包括:多个基座,其为载置所述基板的导电性部件,具有分隔为中心部和周边部的感应发热体;基座支撑部,以隔开规定的间隔并重叠成一列地进行排列的方式支撑所述各基座;感应线圈,以包围所述各基座的周围的方式配置在所述处理室内,其温度能自由调节;高频电流电路,构成为能够向所述感应线圈施加高频的电流和低频的电流,所述高频的电流和低频的电流为不同的两个频率的电流;和控制部,通过对从所述高频电流电路施加到所述感应线圈的所述两个频率的电流进行控制,使所述感应发热体的中心部的发热量和周边部的发热量的比率发生变化从而进行温度控制。 |
地址 |
日本东京 |