| 发明名称 | 一种抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种抛光液，包括如下组分：氧化剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；螯合剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；添加剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；PH调节剂和作溶剂的去离子水，PH值为6～8。本发明的抛光液，一方面选取GST与W之间的抛光差异最小的PH值范围(6～8)来改善GST电化学腐蚀；另一方面，应用本发明的抛光液进行GST抛光时，本发明抛光液含有的添加剂在GST与W上能形成钝化层，进一步改善GST与W之间的抛光差异，减小相对W的GST电化学腐蚀，提高GST的抛光性能，可应用于其他相变材料的抛光制程中，进而提高了PCRAM的成品率。 | ||
| 申请公布号 | CN102757731A | 申请公布日期 | 2012.10.31 |
| 申请号 | CN201110103140.8 | 申请日期 | 2011.04.25 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 蒋莉;黎铭琦 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种抛光液，其特征在于，包括如下组分：氧化剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；螯合剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；添加剂，其含量为所述抛光液总质量的0.1％～5％；PH调节剂和作溶剂的去离子水，PH值为6～8。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区上海市张江路18号 | ||