发明名称 Antireflection film composition, substrate, and pattering process
摘要
申请公布号 EP1813985(B1) 申请公布日期 2012.10.31
申请号 EP20070001328 申请日期 2007.01.22
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 OGIHARA, TSUTOMU;IWABUCHI, MOTOAKI;ASANO, TAKESHI;UEDA, TAKAFUMI
分类号 G03F7/075;G03F7/09 主分类号 G03F7/075
代理机构 代理人
主权项
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