发明名称 ABSPALTUNG FÜR EIN HALBLEITERSUBSTRAT
摘要 <p>Ein Verfahren zum Abspalten einer Schicht von einem Block eines Halbleitersubstrats beinhaltet Ausbilden einer Metallschicht auf dem Block des Halbleitersubstrats, wobei eine Zugspannung in der Metallschicht so eingerichtet ist, dass ein Bruch in dem Block verursacht wird; und Entfernen der Schicht von dem Block an dem Bruch. Ein System zum Abspalten einer Schicht von einem Block eines Halbleitersubstrats beinhaltet eine Metallschicht, die auf dem Block des Halbleitersubstrats ausgebildet ist, wobei eine Zugspannung in der Metallschicht so eingerichtet ist, dass ein Bruch in dem Block verursacht wird, und wobei die Schicht so eingerichtet ist, dass sie an dem Bruch von dem Block entfernt wird.</p>
申请公布号 DE112011100105(T5) 申请公布日期 2012.10.31
申请号 DE201111100105T 申请日期 2011.02.16
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 BEDELL, STEPHEN W:;FOGEL, KEITH;LAURO, PAUL A.;SHAHRJERDI, DAVOOD;SADANA, DEVENDRA
分类号 H01L21/304;B28D5/00 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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