发明名称 |
Selektives Züchten von Nanoröhren innerhalb von Durchgangskontakten unter Verwendungeines lonenstrahls |
摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zum selektiven Züchten einer oder mehrerer Kohlenstoffnanoröhren beschrieben, wobei das Verfahren folgende Schritte beinhaltet: Bilden einer Isolierschicht (10) auf einem Substrat (12), wobei die Isolierschicht eine obere Fläche (14) aufweist; Bilden eines Durchgangskontaktes (18) in der Isolierschicht; Bilden einer aktiven Metallschicht (30) auf der Isolierschicht, die Flächen der Seitenwände und des Bodens des Durchgangskontaktes beinhaltet; und Abtragen der aktiven Metallschicht von Teilen der oberen Fläche mittels eines Ionenstrahls, um das selektive Züchten einer oder mehrerer Kohlenstoffnanoröhren innerhalb des Durchgangskontaktes zu ermöglichen.</p> |
申请公布号 |
DE112010003451(T5) |
申请公布日期 |
2012.10.31 |
申请号 |
DE20101103451T |
申请日期 |
2010.08.05 |
申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP. |
发明人 |
CALLEGARI, ALESSANDRO;BABICH, KATHERINA;O'SULLIVAN, EUGENE;CONNOLLY, JOHN |
分类号 |
H01L21/768;H01L23/532 |
主分类号 |
H01L21/768 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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