用于沉积工艺的方法和设备

摘要

本发明提供用于沉积工艺的方法和设备。在部分实施例中，一种设备可包括基板支撑件，所述基板支撑件包括：基座板，所述基座板具有凹穴和唇部，所述凹穴设置在基座板的上表面中，所述唇部形成在所述上表面中，且所述唇部外接所述凹穴，而所述唇部配置以将基板支撑在唇部上；以及多个通气孔，所述多个通气孔从凹穴延伸至基座板的上表面，以当基板设置在唇部上时，使在基板的背侧与凹穴之间所捕捉（trapped）的气体排出。本发明还公开了使用本发明的设备而在基板上沉积一层的方法。

主权项

一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：基座板，所述基座板具有凹穴和唇部，所述凹穴设置在所述基座板的上表面中，所述唇部形成在所述上表面中，且所述唇部外接所述凹穴，所述唇部配置以将基板支撑在所述唇部上；以及多个通气孔，所述多个通气孔从所述凹穴延伸至所述基座板的所述上表面，以将所述基板设置在所述唇部上时，在所述基板的背侧与所述凹穴之间所捕捉的气体排出。