发明名称 导光板抛光机
摘要 本实用新型公开了一种导光板抛光机,包含有一基座。一吸附装置,设于基座上,移动座能够在该基座的台面上沿一轴向移动。二初研磨装置,设于基台上且分别位于吸附装置两侧,该二初研磨装置各具有一初研磨头。二细研磨装置,设于基台上且分别位于吸附装置的两侧,二细研磨装置各具有一细研磨头。一移载装置,设于基台的一侧,移载装置包含有一移载导轨以及一吸取座组,移载导轨通过一架体设立于台面上,吸取座组则设于移载导轨并能够沿移载导轨的轴向往复移动。一控制台,设于基台上,用于控制导光板抛光机的动作。
申请公布号 CN202507159U 申请公布日期 2012.10.31
申请号 CN201120461598.6 申请日期 2011.11.18
申请人 凌伟股份有限公司 发明人 周珮瑜
分类号 B24B29/06(2006.01)I 主分类号 B24B29/06(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种导光板抛光机,其特征在于,包含有:一基座,该基座上设有一台面;一吸附装置,设于该基座上,该吸附装置包含有一吸盘,该移动座能够在该基座的台面上沿一轴向移动,该吸盘能够吸住要加工研磨抛光的导光板而随着该移动座移动;二初研磨装置,设于该基台台面上且分别位于该吸附装置两侧,该二初研磨装置能够同步或不同步的朝该导轨移动靠近该导轨及后退远离该导轨,该二初研磨装置各具有一初研磨头,各初研磨头由一驱动装置驱使转动;二细研磨装置,设于该基台台面上且分别位于该吸附装置的两侧,该二细研磨装置能够同步或不同步的朝该导轨移动靠近该导轨及后退远离该导轨,该二细研磨装置各具有一细研磨头,各细研磨头由一驱动装置驱使转动;一移载装置,设于该基台的一侧,该移载装置包含有一移载导轨以及一吸取座组,该移载导轨通过一架体设立于该台面上,该吸取座组则设于该移载导轨并能够沿该移载导轨的轴向往复移动,该吸取座组具有一吸盘;一控制台,设于该基台上,用于控制该导光板抛光机的动作。
地址 中国台湾台中市