| 发明名称 | 提高反应装置表面清洁能力的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种提高反应装置表面清洁能力的方法，依次包括以下步骤：向所述反应装置表面通含氧气体；向所述反应装置表面通含氟气体，对所述反应装置进行清洗。综上所述，本发明提供一种新的反应装置表面清洁方法，该方法能够持续有效的清除反应装置表面的残留杂质，进而提高在反应装置内进行工艺制程的晶圆表面的均匀性和平坦性。 | ||
| 申请公布号 | CN102755969A | 申请公布日期 | 2012.10.31 |
| 申请号 | CN201110108361.4 | 申请日期 | 2011.04.28 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 许亮 |
| 分类号 | B08B3/00(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种提高反应装置表面清洁能力的方法，其特征在于，依次包括以下步骤：向所述反应装置表面通含氧气体，对所述反应装置表面进行氧化；向所述反应装置表面通含氟气体，对所述反应装置进行清洗。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区上海市张江路18号 | ||