| 发明名称 | 用于薄膜沉积的掩模框架组件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于将沉积材料沉积在沉积基底上的掩模框架组件，该掩模框架组件包括：掩模框架，包括开口和围绕开口的多个框架；以及掩模，结合在掩模框架上。防变形单元形成在掩模的至少一个区域上。由于防变形单元形成在掩模中的沉积图案的外围部分上，所以可以减小掩模沿垂直方向的变形。因此，可以减少掩模与基底的有缺陷附着。 | ||
| 申请公布号 | CN102760842A | 申请公布日期 | 2012.10.31 |
| 申请号 | CN201210037878.3 | 申请日期 | 2012.02.17 |
| 申请人 | 三星移动显示器株式会社 | 发明人 | 洪宰敏 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 刘灿强;王占杰 |
| 主权项 | 一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，所述掩模框架组件包括：掩模框架，包括开口和围绕开口的多个框架；以及掩模，结合到掩模框架，其中，防变形单元形成在掩模的至少一个区域上。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市 | ||