发明名称 |
构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法 |
摘要 |
本发明涉及构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法。具体而言,提供的是使用多种填充剂来制造涂覆构件(100)的方法。一种方法包括在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132)。每个凹槽均具有基部(134)并至少部分地沿该基底的外表面延伸。该方法还包括将牺牲性填充剂(32)设置在凹槽(多个)内,将永久性填充剂(33)设置在牺牲性填充剂(32)上,将涂层(150)设置在基底的至少一部分和永久性填充剂上,以及从凹槽(多个)去除第一牺牲性填充剂,以限定用于冷却该构件的一个或更多通道(130)。本发明还提供的是一种带有永久性填充剂(33)的构件(100)。 |
申请公布号 |
CN102758651A |
申请公布日期 |
2012.10.31 |
申请号 |
CN201210143170.6 |
申请日期 |
2012.04.27 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
R·B·雷贝克;R·B·罗林;S·A·韦弗;R·S·班克;D·M·利普金;J·B·麦德莫特;L·B·库尔;A·M·里特 |
分类号 |
F01D5/18(2006.01)I;F01D5/28(2006.01)I;F02C7/18(2006.01)I |
主分类号 |
F01D5/18(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
朱铁宏;谭祐祥 |
主权项 |
一种制造构件(100)的方法,所述方法包括:在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132),其中,所述一个或更多凹槽(132)中的每一个均具有基部(134)并至少部分地沿所述基底(110)的所述外表面(112)延伸;将牺牲性填充剂(32)设置在所述一个或更多凹槽(132)内;将永久性填充剂(33)设置在所述牺牲性填充剂(32)上;将涂层(150)设置在所述基底(110)的至少一部分和所述永久性填充剂(33)上;以及从所述一个或更多凹槽(132)去除所述第一牺牲性填充剂(32),以限定用于冷却所述构件(100)的一个或更多通道(130)。 |
地址 |
美国纽约州 |