| 摘要 |
1. Устройство для осаждения латерально структурированных слоев на субстрат (2), расположенный на держателе (1) субстрата, посредством теневой маски (3), поверхностно наложенной на предназначенную для нанесения покрытия поверхность (2') субстрата, при этом на держателе (1) субстрата имеются первые магнитные зоны (4), предназначенные для магнитного притяжения соответствующих этим первым магнитным зонам (4) вторых магнитных зон (5) теневой маски (3), при этом первые магнитные зоны (4) перед нанесением покрытия на субстрат (2) при наложенной на субстрат (2) теневой маске (3) приводятся в активное положение, в котором вторые магнитные зоны (5) притягиваются к поверхности (2') субстрата, а для наложения или снятия теневой маски (3) они приводятся в неактивное положение, в котором сила притяжения, действующая на вторые магнитные зоны (5), уменьшается, отличающееся тем, что первые магнитные зоны (4) образованы расположенными в выемках (6) контактной поверхности (1') субстрата держателя (1) субстрата, в частности, постоянными магнитными элементами, которые по месторасположению соответствуют вторым магнитным зонам (5). ! 2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первые или вторые магнитные зоны (4, 5) образованы магнитными, в частности, постоянными магнитными элементами, а соответственно другие магнитные зоны (4, 5) ферромагнитными элементами. ! 3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что, в частности, образованные (постоянными) магнитными элементами первые магнитные зоны (4) проложены поперек контактной поверхности (1') субстрата для перемещения из активного положения в неактивное положение и обратно. ! 4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что выемки ( |
