发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING A TEXTURED SILICON SUBSTRATE |
摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines texturierten Siliziumsubstrats, insbesondere Silizium-Wafers, umfassend folgende Arbeitsschritte: a) Einseitiges Aufbringen einer wässrigen Katalysatorlösung, enthaltend Metallionen, auf das Siliziumsubstrat; b) Behandlung des Siliziumsubstrats mit einer sauren und/oder basischen Ätzlösung, enthaltend mindestens ein Oxidationsmittel.</p> |
申请公布号 |
WO2012142987(A1) |
申请公布日期 |
2012.10.26 |
申请号 |
WO2012DE00152 |
申请日期 |
2012.02.17 |
申请人 |
SOVELLO GMBH;CICHOSZEWSKI, JAKUB;REUTER, MICHAEL |
发明人 |
CICHOSZEWSKI, JAKUB;REUTER, MICHAEL |
分类号 |
C09K13/08;H01L31/0236 |
主分类号 |
C09K13/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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