发明名称 METHOD FOR PRODUCING A TEXTURED SILICON SUBSTRATE
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines texturierten Siliziumsubstrats, insbesondere Silizium-Wafers, umfassend folgende Arbeitsschritte: a) Einseitiges Aufbringen einer wässrigen Katalysatorlösung, enthaltend Metallionen, auf das Siliziumsubstrat; b) Behandlung des Siliziumsubstrats mit einer sauren und/oder basischen Ätzlösung, enthaltend mindestens ein Oxidationsmittel.</p>
申请公布号 WO2012142987(A1) 申请公布日期 2012.10.26
申请号 WO2012DE00152 申请日期 2012.02.17
申请人 SOVELLO GMBH;CICHOSZEWSKI, JAKUB;REUTER, MICHAEL 发明人 CICHOSZEWSKI, JAKUB;REUTER, MICHAEL
分类号 C09K13/08;H01L31/0236 主分类号 C09K13/08
代理机构 代理人
主权项
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