| 摘要 |
Es werden Verfahren und Vorrichtungen zum Bearbeiten von Substraten und Steuern des Erwärmens und Abkühlens von Substraten beschrieben. Eine Strahlungsquelle, die Strahlung in einem ersten Wellenlängenbereich liefert, erwärmt das Substrat innerhalb eines vorbestimmten Temperaturbereiches, wobei das Substrat in einem zweiten Wellenlängenbereich innerhalb des ersten Wellenlängenbereiches und innerhalb des vorbestimmten Temperaturbereiches strahlungsabsorbierend ist. Ein Filter hindert mindestens einen Teil der Strahlung innerhalb des zweiten Wellenlängenbereiches daran, das Substrat zu erreichen. |
