| 发明名称 | 半导体设备 | ||
| 摘要 | 本发明解决的问题是提供了一种半导体设备，包括至少两个工艺腔室，每一工艺腔室具有对应的腔室排气管，所述排气管连接至公共排气装置，至少一个工艺腔室的排气管上设置有手动阀。本发明解决了现有技术中工艺腔室泄露时无法快速确认泄露腔室、维修时间偏长的问题，提高了半导体设备的利用率。 | ||
| 申请公布号 | CN102751219A | 申请公布日期 | 2012.10.24 |
| 申请号 | CN201210261903.6 | 申请日期 | 2012.07.26 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 张程;王旭东 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 郑玮 |
| 主权项 | 一种半导体设备，包括至少两个工艺腔室，每一工艺腔室具有对应的腔室排气管，所述排气管连接至公共排气装置，其特征在于，至少一个工艺腔室的排气管上设置有手动阀。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 | ||