发明名称 振动陀螺激励罩电极刻蚀平衡调整装置及方法
摘要 本发明公开了一种振动陀螺激励罩电极刻蚀平衡调整装置及方法,包括工作平台、夹具、定位基柱和测量系统;测量系统包括三个激光位移传感器和数据处理及显示单元,三个激光位移传感器的光源线与其在激励罩外圆柱面上投影点的切线垂直,其中两个激光位移传感器的光源点连线与定位基柱轴线平行;第三个激光位移传感器的光源点与另外两个激光位移传感器其中一个的光源点在同一圆周上,该同一圆周的圆心在定位基柱轴线上,且两者光源线垂直相交于定位基柱中心轴上。本发明满足激励罩各项性能参数,降低工艺过程成本,工艺简单,操作方便,缩短刻蚀工艺时间,表面无划痕,大大提高激励罩电极刻蚀的成品率。
申请公布号 CN102744524A 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201210261078.X 申请日期 2012.07.26
申请人 中国电子科技集团公司第二十六研究所 发明人 杨勇;方针;余波
分类号 B23K26/42(2006.01)I;G01C25/00(2006.01)I;G01B11/26(2006.01)I;G01B11/27(2006.01)I 主分类号 B23K26/42(2006.01)I
代理机构 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人 李海华
主权项 振动陀螺激励罩电极刻蚀平衡调整装置,包括工作平台、设于工作平台上兼起平衡调整的夹具、设于工作平台上对激励罩定位的定位基柱和测量激励罩平衡状态的测量系统,其特征在于,所述测量系统包括三个激光位移传感器和用于接收三个激光位移传感器输出的数据处理及显示单元,三个激光位移传感器分别用于测量其与激励罩外圆柱面的距离,三个激光位移传感器的光源线与其在激励罩外圆柱面上投影点的切线垂直,其中两个激光位移传感器的光源点连线与定位基柱轴线平行;第三个激光位移传感器的光源点与另外两个激光位移传感器其中一个的光源点在同一圆周上,该同一圆周的圆心在定位基柱轴线上,且两者光源线垂直相交于定位基柱中心轴上。
地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号