发明名称 一种封装薄膜及制造该封装薄膜的方法
摘要 本发明提供一种封装薄膜,包括至少一个水氧阻隔层,还包括一个沉积在所述水氧阻隔层上的纳米结构层,所述纳米结构层为封装薄膜的外层,所述纳米结构层的表面分布有若干个凸起,所述凸起在所述纳米结构层的表面至少有一个方向的长度为1-100nm,所述凸起的高度为10-300nm,相邻所述凸起之间的间隙为1-100nm。该种薄膜使得水滴与纳米结构层表面的粘附力远远小于水滴本身的表面张力,因此水滴很容易张紧成球形,从而增大了水滴与纳米结构层的接触角,使所述接触角大于150度,进而使得水滴难以在纳米结构层的表面吸附,从而改善了所述封装薄膜表面的水氧环境,使得水汽难以入侵,从而提高了封装薄膜的使用寿命。
申请公布号 CN102751445A 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201210222231.8 申请日期 2012.06.29
申请人 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 发明人 朱少鹏;邱勇;陈红;黄秀颀
分类号 H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;B32B3/30(2006.01)I 主分类号 H01L51/52(2006.01)I
代理机构 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人 彭秀丽
主权项 一种封装薄膜,包括至少一个厚度为20‑150nm的水氧阻隔层(2),其特征在于:还包括一个沉积在所述水氧阻隔层(2)上的厚度为100‑1000nm的纳米结构层(1),所述纳米结构层(1)位于封装薄膜的外层,所述纳米结构层(1)的表面分布有若干个凸起,所述凸起在所述纳米结构层(1)的表面至少有一个方向的长度为1‑100nm,所述凸起的高度为10‑300nm,相邻所述凸起之间的间隙为1‑100nm。
地址 215300 江苏省苏州市昆山市昆山高新区晨丰路188号