发明名称 卷绕式真空成膜装置
摘要 本发明提供一种卷绕式真空成膜装置,其技术既不需增大装置,还可防止因从去除电荷机构中泄漏出来的带电粒子而引起的基材的热变形。本发明中的卷绕式真空成膜(蒸镀)装置(10)包括电荷捕捉部件(25),其设置在冷却用筒式辊(14)和去除电荷机构(23)之间,用以捕捉从去除电荷机构(23)朝向筒式辊(14)移动的带电粒子。有了上述电荷捕捉部件就可阻止从去除电荷机构(23)中泄漏出来的带电粒子到达筒式辊(14),从而遏制供给筒式辊(14)的用来使之贴紧基材的偏压电势产生变动,可靠地保持了对基材(12)的静电引力。因此,该卷绕式真空成膜装置能可靠地保持基材(12)和筒式辊(14)之间的贴合力,从而可防止基材(12)产生热变形。
申请公布号 CN101946022B 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN200880126755.9 申请日期 2008.04.14
申请人 株式会社爱发科 发明人 横井伸;野村常仁;中塚笃;多田勋
分类号 C23C14/58(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/58(2006.01)I
代理机构 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 代理人 韩登营
主权项 一种卷绕式真空成膜装置,其用来在绝缘体基材上形成金属膜,所述卷绕式真空成膜装置包括:真空槽;传送机构,其用来在所述真空槽的内部传送所述基材;冷却辊,其与所述基材贴紧而冷却该基材;成膜机构,其设置在面对所述冷却辊的位置上,用来在所述基材上形成金属膜;辅助辊,其与所述基材的成膜表面接触并且对该基材的行进路径进行引导;供电机构,其用来向所述冷却辊和所述辅助辊之间提供直流电;去除电荷机构,其在设有供所述绝缘体基材通过的缝隙的金属壳体内对所述基材进行等离子处理以去除电荷;电荷捕捉部件,其设置在所述冷却辊和所述去除电荷机构之间,用来捕捉从所述去除电荷机构朝向所述冷却辊移动的带电粒子。
地址 日本神奈川县