发明名称 镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件
摘要 本发明提供一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:提供基材,该基材为透明的玻璃;采用溅射法在该基材的表面形成预制层A,该预制层A为氧化铝层或氮化铝层;继续采用溅射法在预制层A的表面形成预制层B,该预制层B为铝、铬或钛层;利用氩气等离子体轰击基材的镀膜面,直到预制层B将要完全剥离;重复上述溅镀预制层B和氩气等离子体轰击的步骤以使预制层A形成一色彩层,该色彩层透过所述基材观察呈现白色。所述镀膜件的制备方法稳定可靠且环保。本发明还提供一种上述方法制得的镀膜件。
申请公布号 CN102747322A 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201110101789.6 申请日期 2011.04.22
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;戴龙文;林顺茂
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:提供基材,该基材为透明的玻璃;采用溅射法在该基材的表面形成预制层A,该预制层A为氧化铝层或氮化铝层;继续采用溅射法在预制层A的表面形成预制层B,该预制层B为铝、铬或钛层;利用氩气等离子体轰击基材镀有预制层A和预制层B的表面,直到预制层B将要完全剥离;重复上述溅镀预制层B和氩气等离子体轰击的步骤以使预制层A形成一色彩层,未被氩气等离子体轰击掉的预制层B形成一金属层,该色彩层透过所述基材于CIE Lab表色系统显示的L*坐标介于83至88之间,a*坐标介于‑0.5至0.5之间,b*坐标介于‑0.5至0.5之间。
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