发明名称 |
镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件 |
摘要 |
本发明提供一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:提供基材,该基材为透明的玻璃;采用溅射法在该基材的表面形成预制层A,该预制层A为氧化铝层或氮化铝层;继续采用溅射法在预制层A的表面形成预制层B,该预制层B为铝、铬或钛层;利用氩气等离子体轰击基材的镀膜面,直到预制层B将要完全剥离;重复上述溅镀预制层B和氩气等离子体轰击的步骤以使预制层A形成一色彩层,该色彩层透过所述基材观察呈现白色。所述镀膜件的制备方法稳定可靠且环保。本发明还提供一种上述方法制得的镀膜件。 |
申请公布号 |
CN102747322A |
申请公布日期 |
2012.10.24 |
申请号 |
CN201110101789.6 |
申请日期 |
2011.04.22 |
申请人 |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;戴龙文;林顺茂 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:提供基材,该基材为透明的玻璃;采用溅射法在该基材的表面形成预制层A,该预制层A为氧化铝层或氮化铝层;继续采用溅射法在预制层A的表面形成预制层B,该预制层B为铝、铬或钛层;利用氩气等离子体轰击基材镀有预制层A和预制层B的表面,直到预制层B将要完全剥离;重复上述溅镀预制层B和氩气等离子体轰击的步骤以使预制层A形成一色彩层,未被氩气等离子体轰击掉的预制层B形成一金属层,该色彩层透过所述基材于CIE Lab表色系统显示的L*坐标介于83至88之间,a*坐标介于‑0.5至0.5之间,b*坐标介于‑0.5至0.5之间。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |