发明名称 双层减反射膜冶金多晶硅太阳能电池片及太阳能电池板
摘要 本实用新型公开了一种双层减反射膜冶金多晶硅太阳能电池片及一种太阳能电池板,所述双层减反射膜冶金多晶硅太阳能电池片的硅片为冶金法提纯的多晶硅硅片,所述硅片正面涂覆有双层减反射膜,所述双层减反射膜均为氮化硅膜,包括第一层膜和第二层膜;所述第一层膜,覆盖于所述太阳能电池片正面,具有第一折射率和第一厚度;所述第二层膜,覆盖于所述第一层膜上表面,具有第二折射率和第二厚度;所述第一层膜和所述第二层膜的总折射率介于1.98-2.03之间,且第一折射率大于第二折射率,第二厚度大于两倍的第一厚度,第一厚度和第二厚度之和介于78-85纳米之间。本实用新型解决了太阳能电池片色差问题显著及短路电流低的技术问题。
申请公布号 CN202502996U 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201220125387.X 申请日期 2012.03.29
申请人 包头市山晟新能源有限责任公司;内蒙古日月太阳能科技有限责任公司 发明人 谢俊叶;马承宏;何志刚;徐志虎;李建
分类号 H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I 主分类号 H01L31/0216(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 赵根喜;冯志云
主权项 一种双层减反射膜冶金多晶硅太阳能电池片,其特征在于,所述太阳能电池片的硅片为冶金法提纯的多晶硅硅片,所述硅片正面涂覆有双层减反射膜,所述双层减反射膜均为氮化硅膜,所述双层减反射膜包括第一层膜和第二层膜;所述第一层膜,覆盖于所述太阳能电池片正面,具有第一折射率和第一厚度;所述第二层膜,覆盖于所述第一层膜上表面,具有第二折射率和第二厚度;所述第一层膜和所述第二层膜的总折射率介于1.98‑2.03之间,且所述第一折射率大于所述第二折射率,所述第二厚度大于两倍的所述第一厚度,所述第一厚度和所述第二厚度之和介于78‑85纳米之间。
地址 014105 内蒙古自治区包头市土默特右旗沟门镇纳太村北