一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂

摘要

本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，由聚乙烯醇衍生物为20-40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯为30-50%，OP为1-3%，十二烷基硫基乙酸钠为15-30%，水为2-10%组成。本发明制备工艺简单，成本低；用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗，操作方便，去污快，效果好，同时还具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。

主权项

1.一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，其特征是由聚乙烯醇衍生物，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯，OP，十二烷基硫基乙酸钠和水组成，其各组分的质量百分比含量为：聚乙烯醇衍生物              20-40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯    30-50%，OP                          1-3%，十二烷基硫基乙酸钠          15-30%，水                          2-10%，其中：所述的聚乙烯醇衍生物的分子结构为分子量为5000-40000，m1:m2=10:1，其反应产物是由聚乙烯醇与磷酸反应获得，反应具体过程为：