发明名称 HIGH-PURITY Ru ALLOY TARGET, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND SPUTTERED FILM
摘要
申请公布号 KR101193964(B1) 申请公布日期 2012.10.24
申请号 KR20127003368 申请日期 2006.06.19
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;B22F3/11;C22C5/04 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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