发明名称 乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜
摘要 本发明提供一种可在短时间内形成保护膜,形成保护膜的乳胶掩膜的粘接性与表面硬度优异的乳胶掩膜用保护液及使用其的乳胶掩膜。乳胶掩膜用电离辐射线性固化型保护液含有(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系单体,及可与前述所述低聚物和/或单体共聚的反应性亲水性物质。而且反应性亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质,尤其是(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯和/或(甲基)丙烯酸改性的季铵盐。
申请公布号 CN102754025A 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201080063279.8 申请日期 2010.02.08
申请人 木本股份有限公司 发明人 根岸朋子;长谷川刚
分类号 G03F1/48(2012.01)I 主分类号 G03F1/48(2012.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液,其特征在于,其是用于在乳胶掩膜上形成保护膜的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液,其具有如下成分,即包含(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系单体中的至少任一种的第一成分,以及包含可与所述第一成分共聚的反应性亲水性物质的第二成分。
地址 日本国东京都