发明名称 光掩模及其制作方法与图案定义的方法
摘要 一种光掩模,其包括一光掩模基板、一遮蔽图案以及多个凸起件。其中,光掩模基板的一表面可划分为一图案区以及图案区之外的一非图案区。遮蔽图案配置于图案区,而凸起件配置于非图案区内,且凸起件相对于表面的高度大于遮蔽图案的厚度。使用此光掩模对一待定义基板进行图案定义的步骤时,可藉由凸起件接触待定义基板,并使光掩模与待定义基板之间维持一较小的间距,以提升图案定义的解析度。
申请公布号 CN101191997B 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN200610148664.8 申请日期 2006.11.22
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 丁景隆;王程麒
分类号 G03F1/60(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F1/60(2012.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陶凤波
主权项 一种光掩模的制作方法,包括:提供光掩模基板,该光掩模基板的表面划分为图案区以及该图案区之外的非图案区;提供待定义基板,该待定义基板与该光掩模相对配置;于该光掩模基板的该图案区内形成遮蔽图案;于该光掩模基板的该非图案区内形成多个凸起件,该些凸起件相对于该表面的高度大于该遮蔽图案的厚度;以及使该光掩模的该些凸起件接触该待定义基板。
地址 中国台湾苗栗县