发明名称 太阳能吸收膜组成材及高温太阳能选择性吸收膜结构及其制造方法
摘要 本发明提供太阳能吸收膜组成材及高温太阳能选择性吸收膜结构及其制造方法。上述太阳能吸收膜组成材,包括一氮化不锈钢具有钛成分均匀掺杂于其中。此外,该高温太阳能选择性吸收膜结构包括一基材以及一太阳能吸收膜设置于该基材上,其中该太阳能吸收膜包括一氮化不锈钢具有钛成分均匀掺杂于其中。
申请公布号 TWI375000 申请公布日期 2012.10.21
申请号 TW098134086 申请日期 2009.10.08
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 庄瑞诚;叶咏津;黄朝扬;张秉宏
分类号 F24J2/48 主分类号 F24J2/48
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种太阳能吸收膜组成材,包括:一氮化不锈钢具有钛成分均匀掺杂于其中,其中该太阳能吸收膜组成材的折射率(n)范围大抵介于2.0-3.3、消光系数(k)的范围大抵介于0-1.2。如申请专利范围第1项所述之太阳能吸收膜组成材,其中该太阳能吸收膜组成材的金属分率的范围大抵介于0-45%。如申请专利范围第1项所述之太阳能吸收膜组成材,其中该不锈钢为SUS321不锈钢。一种太阳能吸收膜组成材的制造方法,包括:藉由真空溅镀法形成一氮化不锈钢,使其具有钛成分均匀掺杂于其中,其中该太阳能吸收膜组成材的折射率(n)范围大抵介于2.0-3.3、消光系数(k)的范围大抵介于0-1.2。如申请专利范围第4项所述之太阳能吸收膜组成材的制造方法,其中该太阳能吸收膜组成材的金属分率的范围大抵介于0-45%。如申请专利范围第4项所述之太阳能吸收膜组成材的制造方法,其中该不锈钢为SUS321不锈钢。一种高温太阳能选择性吸收膜结构,包括:一基材;以及一太阳能吸收膜设置于该基材上;其中该太阳能吸收膜包括一氮化不锈钢具有钛成分均匀掺杂于其中,其中该太阳能吸收膜组成材的折射率(n)范围大抵介于2.0-3.3、消光系数(k)的范围大抵介于0-1.2。如申请专利范围第7项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构,其中该太阳能吸收膜为一单层膜。如申请专利范围第7项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构,其中该钛成分的金属分率的范围大抵介于0-45。如申请专利范围第7项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构,其中该太阳能吸收膜包括一第一吸收膜具有一第一钛金属分率及一第二吸收膜具有一第二钛金属分率,其中该第一钛金属分率大于该第二钛金属分率。如申请专利范围第10项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构,其中该太阳能吸收膜更包括一第三吸收膜具有一第一氮化钛陶瓷分率及一第四吸收膜具有一第二氮化钛陶瓷分率,其中该第一氮化钛陶瓷分率小于该第二氮化钛陶瓷分率。一种高温太阳能选择性吸收膜结构的制造方法,包括:提供一基材;以及藉由真空溅镀法形成一太阳能吸收膜于该基材上;其中该太阳能吸收膜包括一氮化不锈钢具有钛成分均匀掺杂于其中,其中该太阳能吸收膜组成材的折射率(n)范围大抵介于2.0-3.3、消光系数(k)的范围大抵介于0-1.2。如申请专利范围第12项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构的制造方法,其中该太阳能吸收膜为一单层膜。如申请专利范围第12项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构的制造方法,其中该钛成分的金属分率的范围大抵介于0-45。如申请专利范围第12项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构的制造方法,其中该太阳能吸收膜包括一第一吸收膜具有一第一钛金属分率及一第二吸收膜具有一第二钛金属分率,其中该第一钛金属分率大于该第二钛金属分率。如申请专利范围第15项所述之高温太阳能选择性吸收膜结构的制造方法,其中该太阳能吸收膜更包括一第三吸收膜具有一第一氮化钛陶瓷分率及一第四吸收膜具有一第二氮化钛陶瓷分率,其中该第一氮化钛陶瓷分率小于该第二氮化钛陶瓷分率。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号