| 主权项 |
一种取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，该方法包含：取得一量取绕射信号，其中该量取绕射信号系利用一测光装置自一晶圆上之一位置所量取；根据存在于该量取绕射信号中之杂讯定义一第一加权函数；根据该量取绕射信号之准确度定义一第二加权函数；根据该量取绕射信号之敏感度定义一第三加权函数；以及根据该第一、第二与第三加权函数中之一个或多个定义一第四加权函数。如申请专利范围第1项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该取得一量取绕射信号之步骤包含：取得一组量取绕射信号，其中该组量取绕射信号系利用该测光装置自该晶圆上之一单一位置所量取。如申请专利范围第2项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该取得一第一加权函数之步骤包含：根据该组量取绕射信号产生一杂讯轮廓(noise profile)；根据该杂讯轮廓定义一杂讯包迹(noise envelope)；以及根据该杂讯包迹定义该第一加权函数。如申请专利范围第3项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该定义该第一加权函数之步骤包含：将一初始加权函数定义为该杂讯包迹之反转；以及修改该初始加权函数以定义该第一加权函数。如申请专利范围第4项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该修改该初始加权函数之步骤包含：比例缩放该初始加权函数；以及截取该初始加权函数。如申请专利范围第3项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该产生一杂讯轮廓之步骤包含：计算该组量取绕射信号之一平均量取绕射信号；以及计算该组量取绕射信号中之各个量取绕射信号与该平均量取绕射信号之差异，其中该杂讯轮廓系计算所得之差异除以该平均量取绕射信号。如申请专利范围第1项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该晶圆为一参照晶圆。如申请专利范围第7项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该参照晶圆包含一裸矽层。如申请专利范围第7项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该取得一第二加权函数之步骤包含：取得一与该参照晶圆上之该位置相对应之模拟绕射信号；比较该量取绕射信号与该模拟绕射信号；根据该量取绕射信号与该模拟绕射信号之比较结果定义一错误轮廓(error profile)；根据该错误轮廓定义一错误包迹(error envelope)；以及根据该错误包迹定义该第二加权函数。如申请专利范围第9项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该第二加权函数系定义为该错误包迹之反转。如申请专利范围第1项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，更包含：取得一组量取或模拟绕射信号；利用多变量分析针对所取得之该组量取或模拟绕射信号决定一或多个必要变数；以及利用该一或多个必要变数将所取得之该量取绕射信号转换为一转换之绕射信号，其中该第三加权函数系根据该转换之绕射信号与该量取绕射信号而定义。如申请专利范围第11项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该第三加权函数系该转换之绕射信号与该量取绕射信号之比值。如申请专利范围第1项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，更包含：利用该第一、第二与第三加权函数执行一趋势分析，其中该第四加权函数系根据该趋势分析而定义。如申请专利范围第13项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该执行一趋势分析之步骤包含：利用该第一加权函数取得焦点曝光晶圆(focus/exposure wafer)之晶圆内关键尺寸变异；利用该第二加权函数取得焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异；利用该第三加权函数取得焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异；以及比较利用该第一、第二与第三加权函数所取得之焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异之结果。如申请专利范围第13项之取得一加权函数以增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，其中该执行一趋势分析之步骤更包含：利用该第一加权函数取得具有氮氧化矽层之焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异；利用该第二加权函数取得具有氮氧化矽层之焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异；利用该第三加权函数取得具有氮氧化矽层之焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异；以及比较利用该第一、第二与第三加权函数所取得之具有氮氧化矽层之焦点曝光晶圆之晶圆内关键尺寸变异之结果。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，该方法包含：自一晶圆上之一特征部分取得一第一量取绕射信号；将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘以产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义；以及利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性其中该第二量取绕射信号为自一单一位置量测取得之一组量取绕射信号，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：根据该组量取绕射信号产生一杂讯轮廓；根据该杂讯轮廓定义一杂讯包迹；以及根据该杂讯包迹定义该加权函数。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，该方法包含：自一晶圆上之一特征部分取得一第一量取绕射信号；将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘以产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义；以及利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号系自一参照晶圆量测取得，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：取得一与该参照晶圆上之该位置相对应之模拟绕射信号；比较该第二量取绕射信号与该模拟绕射信号；根据该第二量取绕射信号与该模拟绕射信号之比较结果定义一错误轮廓；根据该错误轮廓定义一错误包迹；以及根据该错误包迹定义该加权函数。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，该方法包含：自一晶圆上之一特征部分取得一第一量取绕射信号；将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘以产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义；以及利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号系自一参照晶圆量测取得，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：取得一组量取或模拟绕射信号；利用多变量分析针对所取得之该组量取或模拟绕射信号决定一或多个必要变数；以及利用该一或多个必要变数将所取得之该量取绕射信号转换为一转换之绕射信号，其中该加权函数系根据该转换之绕射信号与该量取绕射信号而定义。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之方法，该方法包含：自一晶圆上之一特征部分取得一第一量取绕射信号；将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘以产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义；以及利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号包含自一单一位置量测取得之一组量取绕射信号，以及自一参照晶圆量测取得之一第三量取绕射信号，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：根据该组量取绕射信号产生一杂讯轮廓；根据该杂讯轮廓定义一杂讯包迹；根据该杂讯包迹定义一第一加权函数；取得一与该参照晶圆上之该位置相对应之模拟绕射信号；比较该第三量取绕射信号与该模拟绕射信号；根据该第三量取绕射信号与该模拟绕射信号之比较结果定义一错误轮廓；根据该错误轮廓定义一错误包迹；根据该错误包迹定义一第二加权函数；取得一组量取或模拟绕射信号；利用多变量分析针对所取得之该组量取或模拟绕射信号决定一或多个必要变数；利用该一或多个必要变数将该组量取绕射信号转换为一组转换之绕射信号；以及根据该组转换之绕射信号之其中之一与该组量取绕射信号之其中之一定义一第三加权函数，其中该加权函数系根据该第一、第二与第三加权函数中之一个或多个而定义。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之系统，包含：一测光装置，其自一晶圆上之一特征部分产生一第一量取绕射信号；以及一处理器，其经装配设定以将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘而产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义，而该处理器系经装配设定以利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号为自一单一位置量测取得之一组量取绕射信号，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：根据该组量取绕射信号产生一杂讯轮廓；根据该杂讯轮廓定义一杂讯包迹；以及根据该杂讯包迹定义该加权函数。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之系统，包含：一测光装置，其自一晶圆上之一特征部分产生一第一量取绕射信号；以及一处理器，其经装配设定以将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘而产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义，而该处理器系经装配设定以利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号系自一参照晶圆量测取得，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：取得一与该参照晶圆上之该位置相对应之模拟绕射信号；比较该第二量取绕射信号与该模拟绕射信号；根据该第二量取绕射信号与该模拟绕射信号之比较结果定义一错误轮廓；根据该错误轮廓定义一错误包迹；以及根据该错误包迹定义该加权函数。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之系统，包含：一测光装置，其自一晶圆上之一特征部分产生一第一量取绕射信号；以及一处理器，其经装配设定以将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘而产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义，而该处理器系经装配设定以利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号系自一参照晶圆量测取得，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：取得一组量取或模拟绕射信号；利用多变量分析针对所取得之该组量取或模拟绕射信号决定一或多个必要变数；以及利用该一或多个必要变数将所取得之该量取绕射信号转换为一转换之绕射信号，其中该加权函数系根据该转换之绕射信号与该量取绕射信号而定义。一种利用一加权函数增强光学量测中所使用之量取绕射信号之系统，包含：一测光装置，其自一晶圆上之一特征部分产生一第一量取绕射信号；以及一处理器，其经装配设定以将该第一量取绕射信号与一加权函数相乘而产生一增强量取绕射信号，其中该加权函数系根据自另一晶圆所量测取得之一第二量取绕射信号之杂讯、准确度与敏感度而定义，而该处理器系经装配设定以利用该增强量取绕射信号判断该特征部分之一特性，其中该第二量取绕射信号包含自一单一位置量测取得之一组量取绕射信号，以及自一参照晶圆量测取得之一第三量取绕射信号，而该加权函数系藉由以下步骤加以定义：根据该组量取绕射信号产生一杂讯轮廓；根据该杂讯轮廓定义一杂讯包迹；根据该杂讯包迹定义一第一加权函数；取得一与该参照晶圆上之该位置相对应之模拟绕射信号；比较该第三量取绕射信号与该模拟绕射信号；根据该第三量取绕射信号与该模拟绕射信号之比较结果定义一错误轮廓；根据该错误轮廓定义一错误包迹；根据该错误包迹定义一第二加权函数；取得一组量取或模拟绕射信号；利用多变量分析针对所取得之该组量取或模拟绕射信号决定一或多个必要变数；利用该一或多个必要变数将该组量取绕射信号转换为一组转换之绕射信号；以及根据该组转换之绕射信号之其中之一与该组量取绕射信号之其中之一定义一第三加权函数，其中该加权函数系根据该第一、第二与第三加权函数中之一个或多个而定义。 |
