| 主权项 |
一种处理装置，其特征为：具备：供给手段，该供给手段是用来供给液体；和被处理体处理手段，该被处理体处理手段是用来令前述供给手段所提供之作为洗净液的液体接触于被处理体，并防止该液体的扩散，进而对前述被处理体执行洗净处理；和回收手段，该回收手段是用来回收被供给至前述被处理体处理手段的液体；和保持手段，该保持手段是用来使前述被处理体处理手段与前述被处理体保持非接触状态；及旋转手段，该旋转手段是用来使前述被处理体旋转，前述被处理体处理手段具备：供给口，该供给口可供前述供给手段来供给前述液体；和回收口，该回收口是用来将前述液体朝前述回收手段回收；和圆形的底板，该圆形的底板设有前述供给口及前述回收口；及圆形的隆起部，该圆形的隆起部从前述底板的圆周部起，以一定的高度沿着该圆周部在滞留面侧延伸设成壁状，并围绕着前述供给口及前述回收口，使前述液体滞留而形成对流，并可防止前述液体的扩散，前述保持手段具备移动手段，该移动手段当前述被处理体处理手段的洗净处理开始时，保持着前述被处理体处理手段与前述被处理体之间的间隙，并以连结前述被处理体的旋转轴与边缘的方式，使前述被处理体处理手段朝半径方向移动。如申请专利范围第1项所记载的处理装置，其中前述被处理体处理手段的处理面积，是小于前述被处理体的面积。其申请专利范围第1项所记载的处理装置，其中前述移动手段，当对前述被处理体执行洗净处理时，使被处理体处理手段从被处理体的中心朝外侧移动。如申请专利范围第1项所记载的处理装置，其中更进一步具备：促使前述被处理体乾燥的乾燥手段。如申请专利范围第4项所记载的处理装置，其中前述乾燥手段，是用来喷出惰性气体的气体喷出手段。如申请专利范围第5项所记载的处理装置，其中前述气体喷出手段是设在：当对前述被处理体进行洗净处理时，在前述被处理体处理手段的移动方向中之前述被处理体处理手段的后侧。如申请专利范围第1、2、3、4、5或6项所记载的处理装置，其中被回收至前述回收手段的液体，可循环至上述供给手段。一种处理方法，其特征为：具备：保持步骤，该保持步骤是利用保持手段将被处理体处理手段与被处理体保持筹非接触，前述被处理体处理手段具备供给口、回收口、设有前述供给口与前述回收口的圆形底板、及圆形的隆起部，该圆形的隆起部从前述底板的圆周部起，以一定的高度沿着该圆周部在滞留面侧延伸设成壁状，并围绕着前述供给口及前述回收口，使液体滞留而形成对流，并防止前述液体的扩散；和供给步骤，该供给步骤是从供给手段通过前述供给口将作为洗净体的液体朝被处理体处理手段供给；和回收步骤，该回收步骤是利用回收手段，将被供给至前述被处理体处理手段的液体，通过前述回收口予以回收；和旋转步骤，该旋转步骤是利用旋转手段促使前述被处理体旋转；和洗净处理步骤，该洗净处理步骤是利用前述被处理体处理手段，使前述供给手段所供给的液体接触前述被处理体，并防止该液体的扩散，而对前述被处体执行洗净处理；及移动步骤，该移动步骤当前述被处理体处理手段的前述洗净处理开始时，利用具备前述保持手段的移动手段，保持前述被处理体处理手段与前述被处理体之间的间隙，并以连结前述被处理体的旋转轴与边缘的方式，使前述被处理体处理手段朝半径方向移动。 |
