发明名称 相位差薄膜
摘要 本发明提供一种以丙烯酸系聚合物为主成分,具透明性、耐热性及高相位差性能之相位差薄膜。本发明之相位差薄膜系以丙烯酸系聚合物为主成分,于每厚度100μm之波长589nm之面内相位差值为130nm以上500nm以下,全部光线透过率为85%以上。该相位差薄膜之玻璃转移温度以110℃以上200℃以下为较佳。主成份之丙烯酸系聚合物系以具有内酯环结构为较佳。
申请公布号 TWI375053 申请公布日期 2012.10.21
申请号 TW096106424 申请日期 2007.02.26
申请人 触媒股份有限公司 发明人 浅野英雄;中昭夫;丹羽宏和;桑本知幸;渡部弘康;塩谷佳之
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 罗行 台北市信义区东兴路37号9楼;赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼
主权项 一种相位差薄膜,其特征为以丙烯酸系聚合物为主成分,于每厚度100μm之波长589nm之面内相位差值为130nm以上500nm以下,全部光线透过率为85%以上。一种相位差薄膜,其特征为以丙烯酸系聚合物为主成分,于每厚度100μm之波长589nm之厚度方向相位差值之绝对值为70nm以上400nm以下,全部光线透过率为85%以上。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其为一轴延伸而制得。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其为两轴延伸而制得。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其玻璃转移温度为110℃以上200℃以下。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其中该丙烯酸系聚合物具有使用N-取代马来醯亚胺进行共聚合或于分子链中导入内酯环结构、戊二酸无水物结构或戊二酸醯亚胺结构。如申请专利范围第6项之相位差薄膜,其中该内酯环结构具有下述一般式(1)所表示之结构@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!(式中R1、R2、R3表示各自独立之氢原子或碳数为1~20之有机残基。又,有机残基亦可含有氧原子)。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其于25℃、65%RH之气氛下,以折弯半径1mm将薄膜面内之与慢轴平行方向及薄膜面内与慢轴垂直方向进行180°折弯时,任何方向皆不会产生裂缝(crack)。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其中正双折射性较容易显现。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其含有5重量%以上50重量%以下之由核部及壳部所形成之多层结构的弹性有机微粒子。如申请专利范围第1或2项之相位差薄膜,其含有未满5重量%或0重量%之由核部及壳部所形成之多层结构的弹性有机微粒子。如申请专利范围第10项之相位差薄膜,其中该壳部由丙烯腈(acrylonitrile)及苯乙烯(styrene)形成之单体组成物所聚合而成之结构。如申请专利范围第10项之相位差薄膜,其中该核部具有交联橡胶结构。如申请专利范围第13项之相位差薄膜,其中该交联橡胶结构具有丙烯酸系橡胶、聚丁二烯系橡胶或烯烃系橡胶之结构。
地址 日本