发明名称 液晶显示装置及其制造方法
摘要 本发明系提供一种液晶显示装置及其制造方法,其以将像素分割为复数个而形成之次像素作为一个电性独立之像素,藉此可抑制因按压液晶显示装置之显示面所造成之液晶配向混乱。;前述液晶显示装置,系由具有反射部5及穿透部6之复数个像素40构成,且像素40由配向分割之复数个次像素50构成者,其特征在于具有:于基板10上形成之元件层11;被覆元件层11地于基板10上形成之绝缘膜12;与元件层11相连接地于绝缘膜12上形成之像素电极14;及于包含元件层11与像素电极14之连接区域之元件层11上之绝缘膜12上形成之间隙调整层15;及在电性连接次像素50间之连接部14C上形成之介电体16;反射部5由具有自元件层11至间隙调整层15之区域构成,穿透部6由具有在除间隙调整层形成区域之外的基板10上形成之像素电极14之区域构成。
申请公布号 TWI375067 申请公布日期 2012.10.21
申请号 TW096143293 申请日期 2007.11.15
申请人 新力股份有限公司 发明人 小糸健夫;西川宽
分类号 G02F1/1333 主分类号 G02F1/1333
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种液晶显示装置,系包含具有反射部与穿透部之复数个像素,且上述像素包括配向分割而成之复数个次像素,其特征在于包含:于基板上形成之元件层;被覆上述元件层地于上述基板上形成之绝缘膜;与上述元件层相连接地于上述绝缘膜上形成之像素电极;于包含上述元件层与上述像素电极之连接区域的上述元件层上之上述绝缘膜上形成之间隙调整层;及在电性连接上述次像素间之连接部上形成之介电体;上述反射部包含具有上述元件层、被覆上述元件层之上述绝缘膜及在上述绝缘膜上形成之上述间隙调整层之区域;上述穿透部包含具有于上述间隙调整层的形成区域除外之上述绝缘膜上形成之上述像素电极之区域;上述介电体形成于上述穿透部之上述像素电极上;且上述绝缘膜系以使自上述基板表面至上述反射部之绝缘膜表面之高度高于至上述穿透部之绝缘膜表面之高度之方式而形成。如请求项1之液晶显示装置,其中上述间隙调整层之表面形成为凹凸形状。如请求项1之液晶显示装置,其中上述间隙调整层于像素间形成。如请求项1之液晶显示装置,其中在上述间隙调整层上形成有反射电极。如请求项4之液晶显示装置,其中上述反射电极在上述间隙调整层端部和与上述元件层相连接之像素电极相连接。如请求项1之液晶显示装置,其中上述反射部形成于上述一次像素之全部区域,上述穿透部系使用上述次像素而形成者;上述间隙调整层包含介电体;在作为上述反射部之上述次像素之全部区域形成有上述间隙调整层。一种液晶显示装置之制造方法,该液晶显示装置包含具有反射部与穿透部之复数个像素,上述像素包括配向分割而成之复数个次像素,其特征在于包含以下步骤:于基板上形成元件层之步骤;被覆上述元件层地于上述基板上形成绝缘膜之步骤;与上述元件层相连接地于上述绝缘膜上形成像素电极之步骤;及在包含上述元件层与上述像素电极之连接区域的上述元件层上之上述绝缘膜上形成间隙调整层之步骤;上述反射部由具有上述元件层、上述绝缘膜、及上述间隙调整层之区域形成;上述穿透部由具有于上述间隙调整层之形成区域除外的上述绝缘膜上形成之上述像素电极之区域形成;及在上述穿透部之上述像素电极上,于电性连接上述次像素间之连接部上形成介电体;其中以使自上述基板表面至上述反射部之绝缘膜表面之高度高于至上述穿透部之绝缘膜表面之高度之方式,形成上述绝缘膜。如请求项7之液晶显示装置之制造方法,其中藉由在上述次像素间形成介电体而进行像素分割。如请求项7之液晶显示装置之制造方法,其中具有在上述间隙调整层之表面形成凹凸之步骤。如请求项7之液晶显示装置之制造方法,其中具有在上述间隙调整层上形成与上述像素电极相连接之反射电极之步骤。如请求项7之液晶显示装置之制造方法,其中在同一层形成上述间隙调整层与上述介电体。
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