| 主权项 |
一种微影装置，其包含：一支撑件，其经构建以支撑一图案化器件，该图案化器件能够将一图案赋予至一辐射光束之横截面中以形成一图案化辐射光束；一基板台，其经构建以固持一基板；一液体供应系统，其经组态以将液体提供至一基板之一顶表面之一局部区域；一投影系统，其经组态以将该图案化辐射光束经由该液体投射至该基板之一目标部分上；及一控制器，其经调适以在该基板上之一排晶粒之成像过程中协调该基板台及该支撑件以一第一方向移动，使得在实质上平行于该顶表面以成像该排晶粒之一平面上之该投影系统下之该基板的移动系以实质上平行于该第一方向之一方向向后及/或向前，其中该第一方向处在该平面中，其中该控制器进一步经调适以：在该排晶粒曝光之后，当该基板在其边缘通过该局部区域后未处于被液体填满之一空间时，将该基板以在该平面中且实质上垂直于该第一方向的一第二方向上移动，俾使该基板台之一局部表面取代位于该空间下之该基板，且该基板上之该排晶粒之一最后曝光之晶粒系不与该液体接触，该空间系形成于该投影系统下且被该投影系统之一最后光学元件围绕，接着，在该基板上之一第二排晶粒之曝光过程中，协调该基板台及该基板之移动，俾使该投影系统下之该基板为了成像该第二排晶粒而在该平面中的移动系以实质上平行于该第一方向之方向上向后及/或向前。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得该第二方向上之移动发生在该液体供应系统将液体提供至该局部区域的时候。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得藉由按一顺序重复成像该基板上之复数排晶粒而使该基板成像，从而使得，在最后一排晶粒成像之后，该基板台经定位以使得该基板台上一闭合板与该液体供应系统处于该基板之同一侧上，其中该闭合板经组态以关闭该液体供应系统之一孔。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得，在该排晶粒之该成像过程中，该基板台仅于一个方向上移动。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得在复数排晶粒之各者之成像过程中藉由该基板台仅在该投影系统下于实质上平行于该第一方向之方向上向后及/或向前移动而成像该基板之整个顶表面。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得，在该排晶粒之成像过程中，该基板台在该投影系统下进行移动，以便每一晶粒在该投影系统下通过至少两次。如请求项6之微影装置，其中该控制器经调适以使得该排晶粒中之连续晶粒不被一个接一个地扫描。如请求项1之微影装置，其中该控制器经调适以使得该基板上之所有晶粒作为一排晶粒之一部分进行成像，且使得在该成像过程中处在一各别排晶粒之末尾且位于该基板之一半部中的每一最后晶粒在该投影系统下通过的最后时刻，此系处在具有自该基板之中心向外之一分量的一方向上。一种微影装置，其包含：一支撑件，其经构建以支撑一图案化器件，该图案化器件能够将一图案赋予至一辐射光束之横截面中以形成一图案化辐射光束；一基板台，其经构建以固持一基板；一液体供应系统，其经组态以将液体提供至一基板之一顶表面之一局部区域；一投影系统，其经组态以将该图案化辐射光束经由该液体投射至该基板之一目标部分上；及一控制器，其经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，使得在该基板上之一第一排晶粒及一接续之第二排晶粒之成像过程中，该基板台在实质上平行于该顶表面之一平面中，以一第一方向移动；且移动该基板台，使得在该第一排晶粒及该接续之第二排晶粒之每一者之曝光过程中于该第一方向上扫描该基板，其中在该接续之第二排晶粒之晶粒成像后，该第一排晶粒之晶粒系在一第三排晶粒成像之前成像。如请求项9之微影装置，其中在成像该第一排晶粒且成像接续排晶粒之任何晶粒前的期间，曝光该第一排晶粒之至少两个晶粒。一种微影装置，其包含：一支撑件，其经构建以支撑一图案化器件，该图案化器件能够将一图案赋予至一辐射光束之横截面中以形成一图案化辐射光束；一基板台，其经构建以固持一基板；一液体供应系统，其经组态以将液体提供至一基板之一顶表面之一局部区域；一投影系统，其经组态以将该图案化辐射光束经由该液体投射至该基板之一目标部分上；及一控制器，其经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，使得在该基板之一中心区段之一排晶粒之成像过程中，扫描运动实质上垂直于步进运动，且在该基板之一外部区域之成像过程中，以远离该中心区段及该基板之方向扫描位于沿着该中心区段之一侧之该外部区域之所有晶粒，俾使在该外部区域之晶粒之各者之扫描的终点处，该基板未处于被液体填满之一空间，且该空间系形成于该投影系统下且被该投影系统之一最后光学元件围绕，且位于该扫描之该终点之该基板上的该晶粒系不与该液体接触。一种微影装置，其包含：一支撑件，其经构建以支撑一图案化器件，该图案化器件能够将一图案赋予至一辐射光束之横截面中以形成一图案化辐射光束；一基板台，其经构建以固持一基板；一液体供应系统，其经组态以将液体提供至一基板之一顶表面之一局部区域；一投影系统，其经组态以将该图案化辐射光束经由该液体投射至该基板之一目标部分上；及一控制器，其经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，使得在该基板之一顶表面之至少一部分的成像过程中该基板台之扫描运动与步进运动至少部分地组合为一个运动或为实质上平行且沿着一第一方向的独立运动，且连续成像之至少一排晶粒之各者系在一相同方向向前或向后远离该基板扫描，其中该控制器进一步经调适以：在该至少一排晶粒曝光之后，将该基板以在该基板之一平面中且实质上垂直于该第一方向的之一第二方向上移动，俾使在该基板以该第二方向移动之期间，该基板上之该至少一排晶粒之一最后曝光之晶粒不与该液体接触。一种微影装置，其包含：一支撑件，其经构建以支撑一图案化器件，该图案化器件能够将一图案赋予至一辐射光束之横截面中以形成一图案化辐射光束；一基板台，其经构建以固持一基板；一液体供应系统，其经组态以将液体提供至一基板之一顶表面之一局部区域；一投影系统，其经组态以将该图案化辐射光束经由该液体投射至该基板之一目标部分上；及一控制器，其经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，俾使在该基板上除了位于该基板上之各排晶粒之一相同终点处的各晶粒之所有晶粒成像过程中，所有扫描运动均在一个相同的方向上向前或向后。如请求项13之微影装置，其中该控制器系经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，俾使在成像除了位于该基板上之该排晶粒之该终点处的该晶粒之一排晶粒之所有晶粒后，该基板台以相对于该方向之一相反方向移动该基板，俾使该排晶粒之已成像晶粒系通过该投影系统下方。如请求项14之微影装置，其中该控制器系经调适以控制该支撑件及该基板台之移动，俾使在该排晶粒之已成像晶粒以该相反方向通过该投影系统下方后，以该相反方向扫描位于该排晶粒之终点之该晶粒。一种元件制造方法，该方法包含使用一投影系统将一图案化辐射光束经由设于该投影系统与一基板之间之局部区域的液体而投射至该基板上，其中藉由在实质上平行于该顶表面以成像一排晶粒之一平面上之该投影系统下之该基板仅以实质上平行于处在该平面中之该第一方向之一方向向后及/或向前的移动，而使以一第一方向跨过一基板之该排晶粒成像，在该排晶粒曝光之后，当该基板在其边缘通过该局部区域后未处于被液体填满之一空间时，将该基板以在该平面中且实质上垂直于该第一方向的一第二方向上移动，俾使该基板台之一局部表面取代位于该空间下之该基板，且该基板上之该排晶粒之一最后曝光之晶粒系不与该液体接触，该空间系形成于该投影系统下且被该投影系统之一最后光学元件围绕，接着，藉由成像一第二排晶粒之一平面上之该投影系统下之该基板仅以实质上平行于该第一方向之一方向向后及/或向前的移动，而使跨过该基板之该第二排晶粒成像。一种元件制造方法，该方法包含；使用一投影系统将一图案化辐射光束经由设于该投影系统与一基板之间的液体而投射至该基板上，其中藉由以在实质上平行于该基板之一顶表面之一平面中的一第一方向移动该基板以使一第一排晶粒及一接续之第二排晶粒成像，控制该图案化辐射光束，俾使：在该第一排晶粒及该接续之第二排晶粒之各者之曝光过程中，于该第一方向上扫描该基板，其中在该接续之第二排晶粒之晶粒成像后，该第一排晶粒之晶粒系在一第三排晶粒成像之前成像。一种元件制造方法，该方法包含使用一投影系统将一图案化辐射光束经由设于该投影系统与一基板之间的液体而投射至该基板上，其中，在该基板之一中心区段之一排晶粒之成像过程中扫描运动实质上垂直于步进运动，且在该基板之一外部区域之成像过程中，以远离该中心区段及该基板之方向扫描位于沿着该中心区段之一侧之该外部区域之所有晶粒，俾使在该外部区域之该等晶粒之各者之扫描的终点处，该基板未处于被液体填满之一空间，且该空间系形成于该投影系统下且被该投影系统之一最后光学元件围绕，且位于该扫描之该终点之该基板上的该晶粒系不与该液体接触。一种元件制造方法，该方法包含使用一投影系统将一图案化辐射光束经由设于该投影系统与一基板之间的液体而投射至该基板上，其中该基板之扫描运动与步进运动至少部分地组合为一个运动或为实质上平行且沿着一第一方向的独立运动，且连续成像之至少一排晶粒之各者系在一相同方向向前或向后远离该基板扫描，其中该控制器进一步经调适以：在该至少一排晶粒曝光之后，将该基板以在该基板之一平面中且实质上垂直于该第一方向的之一第二方向上移动，俾使在该基板以该第二方向移动之期间，该基板上之该至少一排晶粒之一最后曝光之晶粒不与该液体接触。一种元件制造方法，该方法包含使用一投影系统将一图案化辐射光束经由设于该投影系统与一基板之间的液体而投射至该基板上，其中在该基板上除了位于该基板上之各排晶粒之一相同终点处的各晶粒之所有晶粒成像过程中，所有扫描运动均在一个相同的方向上向前或向后。 |
