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一种共轭高分子-层状黏土混成物，包括：共轭高分子，其中该共轭高分子包括：聚乙炔(polyacetylene)、聚吡咯(polypyrrole)、聚噻吩(polythiophene)、聚苯胺(polyaniline)、聚芴(polyfluorene)、聚萘(polynaphthalene)、聚对苯硫醚(poly(p-phenylene sulfide))、聚对苯乙烯(poly(p-phenylene vinylene))、聚对苯烯(poly(p-phenylene))、聚苯醚(polyphenylene oxide)、聚噻吩乙烯(poly(thienylene vinylene))、聚呋喃乙烯(poly(furylene vinylene))、聚薁(polyazulene)、聚苯基喹啉(poly(phenylquinoline))、或前述之组合；以及层状黏土，其中该层状黏土包括：硅矾石黏土(smectite clay)、蛭石(vermiculite)、管状高岭土(halloysite)、绢云母(sericite)、云母(mica)、合成云母(synthetic mica)、合成水滑石(layered double hydroxide；LDH)、合成硅矾石黏土、或前述之组合；其中该共轭高分子与该层状黏土为物理性混合，且两者互相阻隔分散，该共轭高分子与该层状黏土之重量比为10：1~1：10，其中该混成物系分散在一水性介质中，其中该层状黏土之径长比在50~10000之间，且该层状黏土之尺寸在100~500 nm。如申请专利范围第1项所述之共轭高分子-层状黏土混成物，其中该共轭高分子之重量平均分子量10,000~500,000。如申请专利范围第1项所述之共轭高分子-层状黏土混成物，其中该层状黏土为阳离子交换黏土。如申请专利范围第1项所述之共轭高分子-层状黏土混成物，其中该层状黏土为阴离子交换黏土。如申请专利范围第1项所述之共轭高分子-层状黏土混成物，其中该层状黏土之径长比至少10。如申请专利范围第1项所述之共轭高分子-层状黏土混成物，其中该水性介质包括：去离子水、蒸馏水、自来水、盐水、或前述之组合。如申请专利范围第1项所述共轭高分子-层状黏土混成物，其中该分散之固含量为0.1~15wt%。一种防止共轭高分子聚集的方法，包括下列步骤：提供一共轭高分子，其具有链段纠结型态，其中该共轭高分子包括：聚乙炔(polyacetylene)、聚吡咯(polypyrrole)、聚噻吩(polythiophene)、聚苯胺(polyaniline)、聚芴(polyfluorene)、聚萘(polynaphthalene)、聚对苯硫醚(poly(p-phenylene sulfide))、聚对苯乙烯(poly(p-phenylene vinylene))、聚对苯烯(poly(p-phenylene))、聚苯醚(polyphenylene oxide)、聚噻吩乙烯(poly(thienylene vinylene))、聚呋喃乙烯(poly(furylene vinylene))、聚薁(polyazulene)、聚苯基喹啉(poly(phenylquinoline))、或前述之组合；提供一层状黏土，其具有片状型态，其中该层状黏土包括：硅矾石黏土(smectite clay)、蛭石(vermiculite)、管状高岭土(halloysite)、绢云母(sericite)、云母(mica)、合成云母(synthetic mica)、合成水滑石(layered double hydroxide；LDH)、合成硅矾石黏土、或前述之组合；以一施加剪切力之物理程序混合该共轭高分子与该层状黏土，藉由几何型态之差异使两者互相阻隔分散，以防止共轭高分子聚集，其中该共轭高分子与该层状黏土之重量比为10：1~1：10，以及将该混成物分散于一水性介质中，其中该层状黏土之径长比在50~10000之间，且该层状黏土之尺寸在100~500 nm。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该物理程序更包括施加一冲击力(impact force)。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该物理程序包括研磨(grinding)程序。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该研磨程序系以研磨机(grinding mill)，或是以杵与研钵进行研磨。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该共轭高分子之重量平均分子量10,000~500,000。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该层状黏土为阳离子交换黏土。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该层状黏土为阴离子交换黏土。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该层状黏土之径长比至少10。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，更包括：以磁石搅拌、超音波震荡、砂磨搅拌、滚筒搅拌、球磨搅拌、或机械搅拌进行分散。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该水性介质包括：去离子水、蒸馏水、自来水、盐水、或前述之组合。如申请专利范围第8项所述之防止共轭高分子聚集的方法，其中该分散之固含量0.1~15wt%。 |
