| 摘要 |
1. Реактор с псевдоожиженным слоем для непрерывного гидрирования высших хлорсиланов формулы HnSiCl4-n, где n=0, 1, 2 или 3, в присутствии кремния, в частности, для получения хлорсиланов путем взаимодействия в основном между кремнием (А), тетрахлоридом кремния (В), водородом (С), а также необязательно хлороводородом или хлором в газообразной форме (D) и необязательно в присутствии катализатора, под давлением 25-55 бар и при температуре от 450 до 650°С, включающий в ! - корпус реактора (1.1) с оболочкой (1.2) для охлаждения или нагрева реактора, а также расположенным параллельно продольной оси реактора во внутреннем пространстве реактора теплообменником (1.3), причем по блокам (1.2) и (1.3) может протекать газообразная среда (F), а среду (F) можно нагревать с помощью отапливаемого газом теплообменника (1.11), ! - по меньшей мере один нижний подводящий трубопровод (1.4) для содержащего хлорсилан или ТХС потока исходных компонентов (В*), ! - по меньшей мере один подводящий трубопровод (1.5) для одного или нескольких газообразных компонентов из ряда (С) и (D), ! - по меньшей мере один подводящий трубопровод (1.6) для кремния в форме частиц (А), к которому при необходимости добавлен катализатор, и ! - средство отведения и разделения продукта (G, Н) через верхнюю часть реактора, пылевой фильтр (1.7) и конденсатор (1.8). ! 2. Реактор с псевдоожиженным слоем по п.1, отличающийся тем, что он дополнительно включает в себя теплообменник (1.10) для использования имеющегося отводимого тепла для предварительного подогрева газовых потоков (F). ! 3. Реактор с псевдоожиженным слоем по п.1, отличающийся тем, что он дополнительно включает в себя теплообменник (1.5.5) для использования имеющегося � |
