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发明名称 A METHOD FOR CHEMICALLY PROCESSING A SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND A DEVICE FOR THE SAME
摘要
申请公布号 KR101193229(B1) 申请公布日期 2012.10.19
申请号 KR20107003401 申请日期 2007.08.23
申请人 发明人
分类号 H01L21/306;H01L21/302 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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