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Die Erfindung betrifft eine optische Verschiebungsmesseinrichtung, bei welcher Variationen im Interferenzlicht durch Streulicht unterdrückt sind, um die Interpolationsgenauigkeit und die Detektionsgenauigkeit zu verbessern. Die Oberfläche eines Beugungsgitters (11) ist mit einer Schutzschicht (12) mit der Schichtstärke L und dem Brechungsindex n beschichtet. Die Schutzschicht besitzt einen Bereich für die Schichtstärke L derart, dass mit einem Winkel &thetas; zwischen einer Linie senkrecht zur Schutzschicht und einem einfallenden Lichtstrahl und mit einem Winkel &thetas; zwischen gebeugtem Licht, welches erzeugt wird durch ein Beugungsgitter und welches reflektiert wird an einer Grenzfläche der Schutzschicht, um Streulicht zu bilden, um erneut auf das Beugungsgitter einzufallen, und einer Linie senkrecht zum Beugungsgitter Interferenzlicht von einer Intensität der Interferenz derart ausgebildet ist, dass ein optischer Weglängenunterschied zwischen dem Streulicht und dem Licht, welches mit dem Streulicht interferiert, welcher repräsentiert wird durch &Dgr; = 2L(n/cos&thetas;' + tan&thetas;'·sin&thetas;)nicht mehr als 2% der Intensität der Interferenz von Interferenzlicht mit einem optischen Weglängenunterschied von &Dgr; = 0 beträgt.
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