Verfahren zur Herstellung eines Reflexionsschichtsystems für Rückseitenspiegel

摘要

Die Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Reflexionsschichtsystems auf einem Substrat S mit zumindest einer transparenten, dielektrischen Schicht und zumindest einer metallischen Reflexionsschicht. Verfahrensgemäß wird die dielektrische, transparente Schicht als Siliziumoxid enthaltende Schicht SiOS auf einem Substrat S mittels geeignetem PVD-Verfahren abgeschieden, das beschichtete Substrat S nachfolgend aus dem Vakuum ausgeschleust und zumindest eine metallische Reflexionsschicht R mittels nasschemischem Verfahren abgeschieden.