| 发明名称 | 用于制氧的膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及特别适用于制氧的膜系统。它包括膜(14)和用于支持膜(14)的多孔基材(12)，其中基材(12)包括柱(15)和用于使气体与膜(14)受控地接触的限定的通道(16)。该膜系统(10)允许高气体流量，并由此适用于小型轻重装置。 | ||
| 申请公布号 | CN102740958A | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201180008232.6 | 申请日期 | 2011.01.28 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | M·克莱;R·毛奇斯措克;R·希尔比希;W·C·科尔 |
| 分类号 | B01D71/02(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D69/10(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I;C01B13/02(2006.01)I | 主分类号 | B01D71/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 苗征;于辉 |
| 主权项 | 膜系统，其包括膜(14)，和用于支持膜(14)的多孔基材(12)，其中基材(12)包括柱(15)和用于使气体与膜(14)受控地接触的限定的通道(16)。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||