发明名称 一种激光分离加工光学晶体的方法与装置
摘要 本发明公开了一种激光分离加工光学晶体的方法与装置,先在光学晶体的凸凹不平表面上沿激光分离加工的轨迹进行简单粗磨擦抛光,将表层的水解雾化层和杂质清除干净,形成了一条宽度大于激光入射光斑直径的透明轨迹;再将相同光学晶体材料的饱和溶液均匀涂抹到擦拭过的光学晶体表面,将光学晶体表面凸凹不平填平;最后采用激光沿着光学晶体饱和溶液的轨迹进行扫描分离加工。装置包括激光加工系统和涂液系统,激光聚焦装置、涂液装置、擦拭装置、抛光装置和打磨装置沿X轴方向依次安装在直线移动机构上。可获得无碎裂、分离精度高、分离加工口陡峭、分离面平滑切割且分离质量高的光学晶体薄片,并能有效抑制激光温度过高而导致的负面效应。
申请公布号 CN102728958A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201210205314.6 申请日期 2012.06.20
申请人 华中科技大学 发明人 段军;邓磊敏;曾晓雁;蒋明
分类号 B23K26/38(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;B23K26/42(2006.01)I 主分类号 B23K26/38(2006.01)I
代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 曹葆青
主权项 一种激光分离加工光学晶体的方法,该方法包括下述步骤: 第1步、在光学晶体的凸凹不平表面上沿激光分离加工的轨迹进行简单粗磨擦抛光,将表层的水解雾化层和杂质清除干净,形成了一条宽度大于激光入射光斑直径的透明轨迹;第2步、将相同光学晶体材料的饱和溶液均匀涂抹到擦拭过的光学晶体表面,将光学晶体表面凸凹不平填平;第3步、采用激光沿着光学晶体饱和溶液的轨迹进行扫描分离加工。
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