用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法。在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。

主权项

一种用于调节辐射束的光学设备，所述设备包括：第一反射部件，所述第一反射部件布置成接收来自辐射源的辐射束，并将所述辐射束反射至第二反射部件，第一反射部件包括初级反射元件；第二反射部件，所述第二反射部件布置成将所述束反射至目标位置并包括次级反射元件阵列，其中，初级反射元件布置成将在第一波长范围内的辐射反射至相关的次级反射元件或反射至相关的次级反射元件的子组中的一个次级反射元件，和其中初级反射元件形成为使得在第二波长范围内的辐射将遭受一定程度的散射，该散射程度被设定为使得在第二波长范围内的所述辐射的大部分被朝向第二反射部件引导，而不是朝向相关的次级反射元件或朝向相关的次级反射元件的所述子组引导。