发明名称 |
一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统 |
摘要 |
本实用新型涉及一种通过对高斯光斑采用电CCD检测、移相定位的均匀光刻系统。其特征在于在激光干涉光刻中,通过CCD检测两束共轭激光干涉条纹,使平台对其定位,并实时反馈控制一个移相定位系统使光路光程发生精确改变,实现对干涉图形的相位移动及定位。在本系统中,移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成。通过将激光分出两束共轭光干涉于CCD上测出条纹周期,使平台移动N个周期,并控制移相定位系统对平台的运行误差进行补偿。系统将平台的位置误差反馈给芯片,经过运算后给位移驱动器施加不同的电压,使反射镜沿着它的轴向方向相应移动,实现条纹周期的重叠从而达到均匀光刻的需要。 |
申请公布号 |
CN202494863U |
申请公布日期 |
2012.10.17 |
申请号 |
CN201220140580.0 |
申请日期 |
2012.04.06 |
申请人 |
胡贞;侯煜 |
发明人 |
胡贞;侯煜 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统,其特征在于:系统包括激光干涉及检测模块[25]、微位移模块[24]、信号处理模块[17]、结果显示模块[18]、带有悬臂梁的二维位移平台[16]和基底[15];激光干涉及检测模块[25]固定于二维位移平台[16]的悬臂梁上,所述微位移模块[24]一端与PZT[10]连接,另一端与信号处理模块[17]连接;所述信号处理模块[17]的一端与激光干涉及检测模块[25]连接获取光斑干涉条纹图,同时还与二维位移平台[16]自带的位移检测模块连接获得平台移动误差;信号处理模块[17]的另一端与结果显示模块[18]连接向其传输信号处理结果;基底[15]固定于二维位移平台[16]之上。 |
地址 |
130022 吉林省长春市卫星路7089号自动化系 |