基板载置机构和使用该基板载置机构的基板处理装置

摘要

本发明提供一种能够使基板的面内温度均匀的基板载置机构和使用该基板载置机构的基板处理装置。基板载置机构(84a、84b、84c)包括：基板载置台(86)，用于载置基板(G)；加热器(87)，其用于隔着基板载置台(86)对基板(G)进行加热；基板升降构件(88)，其用于支承基板(G)的端部，能在将基板(G)载置在基板载置台(86)上的第1位置和从基板载置台(86)上升的第2位置之间升降；升降机构(93、94、95、96、97)，其用于使基板升降构件(88)升降，基板升降构件(88)在上述第1位置作为基板载置台(86)的一部分而发挥作用。

主权项

一种基板载置机构，其特征在于，包括：基板载置台，其用于载置基板；热源，其用于隔着上述基板载置台对基板进行加热或冷却；基板升降构件，其用于支承基板的端部，能在将基板载置在上述基板载置台上的第1位置和使基板从上述基板载置台上升的第2位置之间升降；以及升降机构，其用于使上述基板升降构件升降，上述基板升降构件在上述第1位置作为上述基板载置台的一部分而发挥作用，在上述基板升降构件位于上述第1位置的状态下，上述基板载置台的上表面和上述基板升降构件的基板支承部的上表面为相同高度。