| 发明名称 | 研磨液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种研磨液组合物，以及使用该研磨液组合物的基板的研磨方法。所述研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以通式(1)或(2)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为特定范围。该研磨液组合物例如适合用于磁盘、光盘、光磁盘等盘状记录介质用的基板的研磨。 | ||
| 申请公布号 | CN1923943B | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN200610108436.8 | 申请日期 | 2006.08.02 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 山口哲史 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈建全 |
| 主权项 | 一种研磨液组合物，该研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a’)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b’)表面活性剂为以下述通式(2)所示的磺酸或其盐，且(c’)研磨液组合物的pH值为0～3，所述表面活性剂的含量为0.005～2重量％，R’‑O‑(AO)n‑SO3H (2)通式(2)中，R’表示碳原子数为3～20的烃基，AO表示碳原子数为2～4的氧化烯基，n表示AO的平均加成摩尔数且为1～6。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||