基板处理装置

摘要

本发明提供基板处理装置，其能够使由于进行设置于真空处理室中的基板载置台的表面部的状态确认、该表面部的更换所导致的真空处理的停止时间变短，并且能够高精度地管理上述表面部的状态。该基板处理装置包括：搬送基板的常压气氛的常压搬送室；与该常压搬送室经由负载锁定室连接的真空处理室；设置于上述真空处理室，具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台；设置于上述负载锁定室或常压搬送室，用于收纳上述表面部的保管部；和从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板，且在上述保管部与上述真空处理室的主体部之间搬送上述表面部的搬送机构。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，包括：搬送基板的常压气氛的常压搬送室；经由负载锁定室与该常压搬送室连接，对基板进行真空处理的真空处理室；设置于所述真空处理室，具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台；设置于所述负载锁定室或常压搬送室，用于收纳所述表面部的保管部；和从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板，此外在所述保管部与所述真空处理室的主体部之间搬送所述表面部的搬送机构。