| 发明名称 | 用于化学气相沉积工艺的石墨盘 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种石墨盘结构，所述石墨盘中布局有主衬底和填充衬底，所述主衬底的布局为石墨盘中能够放置最多数目的主衬底所对应的布局，所述填充衬底的直径小于主衬底的直径，所述填充衬底用于将石墨盘的表面填满。本实用新型提高了石墨盘的利用率，从而提高了化学气相沉积设备的产量，降低了外延芯片的成本，满足了应用的要求。 | ||
| 申请公布号 | CN202492575U | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201220099402.8 | 申请日期 | 2012.03.16 |
| 申请人 | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 | 发明人 | 梁秉文;赵茂盛 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 郑玮 |
| 主权项 | 一种用于化学气相沉积工艺的石墨盘，其特征在于，所述石墨盘中布局有主衬底和填充衬底，所述主衬底的布局为石墨盘中能够放置最多数目的主衬底所对应的布局，所述填充衬底的直径小于主衬底的直径，所述填充衬底用于将石墨盘的表面填满。 | ||
| 地址 | 314300 浙江省嘉兴市浙江省海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 | ||